Оптическую плотность

Этот расчет показывает, что в оптическом микроскопе мы не увидим кристаллик, размер которого меньше 0,4 — 0,6 мкм, какое бы большое увеличение не применяли2. Отсюда практически на оптическом микроскопе изучают и фотографируют структуру при увеличении не более чем в 1000 — 1500 раз, при этом самая маленькая частица,, которая в нем различима, имеет на изображении размер 0,4 — 0,6 мм. Полученное изображение можно укрупнить и размер видимых частиц станет больше, но новых деталей в структуре при этом не выявляется.

Чаще, правда, на электронном (и даже оптическом) микроскопе обнаруживают не саму дислокацию, а выход ее на поверхность в виде точки (черточки), окруженную (как говорят, декорированную) всевозможными дефектами и примесными атомами,

Разрешающая способность оптического микроскопа, т. е. минимальная величина объекта (детали структуры), которая различима с его помощью, не превышает 0,2 мкм (200 им). Полезное увеличение в оптическом микроскопе достигает примерно 2000 раз. Применение больших увеличений бесполезно, так как новые, более мелкие детали структуры не становятся видимыми, меняется только масштаб изображения, поскольку разрешающая способность, определяемая волновой природой спета, не меняется.

Исходя из того, что величина сдвига потенциала пропорциональна числу пор в покрытии, строят градуировочную кривую в координатах Д<1 (сдвиг потенциала) - а (число пор на 1 см2). Число пор предварительно определяют на оптическом микроскопе, для этого в пленке алюминиевого покрытия, отделенной от стальной основы травлением в 30 %-ном растворе HN03, определяют среднее число пор в 100 полях зрения.

Исследование распределения легирующих элементов проводилось методом локального рентгеноспектрального анализа на установке МАР-1. Запись велась по косому шлифу с выходом на поверхность. Локальность, т. е. минимальный анализируемый объем, составляла 2—3 мк. Микроструктура изучалась в электронном микроскопе при увеличении 6000 и в оптическом микроскопе при увеличении 500.

Контроль полирования нужно проводить после каждой операции просмотром поверхности на оптическом микроскопе. Полирование можно считать удовлетворительным, если при увеличений 300 крат на основном металле не заметны риски.

напускаться в камеру в момент снятия нагрузки. Расшифровка полученной картины представляет некоторые трудности. Пленка окислов появляется на фоне рельефа, который возникает на поверхности образца при его деформации. Исходные границы зерен (на фото 21 отмечены цифрой 1) выявляются при аустенитизации в вакууме, а при последующей деформации углубляются и расширяются. Деформируются и сами зерна. На их поверхности появляются линии сдвига. Окисная пленка в пределах одного зерна копирует рельеф, а при переходе к другому меняет свою толщину. В результате интерференции световых лучей в пленках при наблюдении такой поверхности в оптическом микроскопе возникает цветная картина. На границах зерен вследствие их большой химической активности, толщина пленки максимальна. Границы зерен, образовавшиеся при рекристаллизации, отличаются меньшей шириной (цифра 2). Внутри новых рекристаллизованных зерен сохраняется след от «бывшей» границы в виде канавки (цифра 3).

Классический метод исследования и контроля металлических материалов включает изучение строения структуры шлифа в оптическом микроскопе. Это направление в металловедении называют металлографией. Структуру выявляют с помощью травления. Металлографическая техника травления занимает в металловедении важное место.

гов при однократном пластичном разрушении или ступени отрыва при хрупком (особенно при рассмотрении в оптическом микроскопе). Линии сдвигов при однократном разрушении, как правило, имеют волнообразное очертание (см. рис. 5, в). Ступени отрыва при хрупком разрушении прямолинейны, в пределах одной фасетки могут располагаться в различном направлении. Усталостные полоски в отличие от этих рисунков имеют строгие очертания, равномерны по ширине и в большинстве случаев имеют выпуклый фронт развития.

На присутствие усталостных микрополосок могут оказыват& влияние условия испытания. Так, в отжженном армко-железе, испытанном при симметричном циклическом кручении, разрушение проходило путем расслоения по плоскостям скольжения [24]. Усталостных микрополосок на поверхности излома при низком и высоком уровне напряжений может не быть. Так, иногда при низком уровне нагрузок наблюдался рельеф в виде фасеток отрыва, характерных для хрупкого разрушения [37, 120, 138]. В ряде случаев при низком уровне нагружения усталостные микрополоски выявляются с большим трудом. На оптическом микроскопе при этом могут наблюдаться плато с небольшой рябизной (см. рис. 75,6), а на электронном-плато с очень тонкими неглубокими полосками. Таким образом, в случае отсутствия микрополосок признаком усталостного разрушения может явиться наличие плато, создающих волокнистость рельефа (см. рис. 73,а), что особенно характерно для алюминиевых сплавов, или сглаженного слегка волокнистого рельефа для высокопрочных сталей (рис. 86).

* Измерения проводились на оптическом микроскопе при увеличении 500—800.

меров, работающих по методу просвечивания, можно определить только оптическую плотность ОГ.

1жа, углеводороды, оксид угле-и альдегиды образуются в результате неполного сгорания топли-:вязанного либо с недостатком кислорода в рабочей смеси, либо шохим смесеобразованием. Пер-эсобенно характерно для бензи-х двигателей, когда карбюра-вырабатывает богатую смесь режимах холостого хода и тор-ния. Дизели всегда работают значительным избытком воздуха, поэтрму выброс СО у них невелик, в отработавших газах много эдородов и особенно сажи, обусловливающих дымность (оптическую плотность) газов.

которое характеризует оптическую плотность среды и, следовательно, прохождение через нее лучистой энергии; /0 — характерный размер ослабляющей среды; ? — среднее значение коэффициента ослабления. Существует еще ряд чисел подобия, которые применяются в процессах радиационного нагрева материалов в печах, в расчетах топочных устройств и в других специальных случаях [Л. 18, 180].

Для изучения пропускания света свинцово-силикатные стекла подвергались облучению у-квантами дозой 1-Ю10 эрг/г, после чего в течение недели измеряли оптическую плотность [10]. Окрашенное в процессе облучения стекло отбеливалось почти до исходного состояния при облучении светом ртутной лампы. После этого образцы были облучены повторно дозой 1010 эрг/г. При этом было установлено, что оптическая плотность стекла после второго облучения была выше, чем после первого. Эти результаты согласуются с тем, что оптическая плотность увеличивается экспоненциально с увеличением дозы облучения вплоть до 5-Ю7 эрг /г, а после этого изменяется линейно.

При измерениях устанавливают нуль на фотоэлектроколори-метре по холостому раствору при синем светофильтре (Я = 400 -f-— 500 нм) и измеряют оптическую плотность раствора во всех колбах. Затем по полученным данным серии стандартных колб строят калибровочную кривую: оптическая плотность D (ось ординат), содержание ионов трехвалентного железа в анализируемом объеме (ось абсцисс). Определив оптическую плотность анализируемых вытяжек, по калибровочной кривой находят содержание железа (мг) в объеме, взятом для анализа.

8. Содержимое колб доводят до метки водой и перемешивают. Устанавливают нуль на фотоэлектроколориметре при синем светофильтре (К = 410 нм) по холостому раствору и измеряют оптическую плотность полученных растворов.

10. Определив оптическую плотность исследуемых растворов, по калибровочной кривой находят содержание нитрат-ионов в объеме, взятом для анализа.

Предложено [14] устройство автоматического счета пузырьков газа с фиксацией результата на шкале электромагнитного счетчика. Принцип работы устройства сводится к следующему: к месту утечки газа прикрепляют резиновую трубку и подводят ее к стеклянному сосуду-формирователю, заполненному жидкостью. Поднимающиеся к поверхности жидкости пузырьки изменяют оптическую плотность суженной части формирователя и вызывают появление электрических импульсов в цепи фотоэлемента, освещенного через сосуд лампой накаливания. Электрический импульс поступает на электромагнитный счетчик, отсчитывающий

Радиационно-дози-метрическое Способность при радиоактивном излучении прямолинейно изменять оптическую плотность или обнаруживать сцинтилляцию, черенков-ское свечение и повышенную стимулированную люминесценцию Производство защитных дозимет-тров и индикаторов, спектрометров, детекторов, счетчиков и другой дозиметрической аппаратуры и специализированных приборов, предназначенных для радиационной техники

Коэффициент пропускания фильтра определяется отношением лучистого потока, прошедшего через фильтр, к потоку, падающему на фильтр: т = Ф/Ф0. Ослабление лучистого потока рассчитывается по формуле Бугера—Ламберта, из которой следует, что т = ехр (—РС(), где р — коэффициент, характеризующий оптическую плотность слоя вещества единичной толщины. Таким образом, используя набор фильтров различной толщины, можно в широких пределах ослабить лучистый поток.

В связи с тем что в УФ-области 200—400 нм большое влияние на оптическую плотность оказывают неорганические соединения, для характеристики содержания органических веществ в основном использовалась УФ-область, ограниченная 230—330 нм. Суммарное содержание РОВ оценивалось по значению