Результате бомбардировки

Титановые сплавы обладают очень низкими антифрикционными свойствами и не пригодны для изготовления трущихся деталей. Для повышения износостойкости титановые сплавы следует подвергать химико-термической обработке — цементации или лучше азотированию. Азотирование проводят при 850—950°С в течение 15—25 ч в диссоциированном аммиаке или сухом, очищенном от кислорода азоте. В результате азотирования получается тонкий (около 0.1 мм) слой, насыщенный азотом с HV 1000—1200.

диаметрах нечувстви- сталей 12ХНЗА (1) тельность к надрезу в результате азотирования наблюдается при малой концентрации напряжений. При воздействии коррозионной среды в стали уже не обнаруживается предела выносливости; ограниченные пределы выносливости как железных, так и многих

Сопротивление газовой коррозии хромистой нержавеющей и аустенитной стали некоторых марок в результате азотирования снижается (рис. 34) ввиду связывания хрома в нитриды и обеднения им твердого раствора. Износостойкость деталей после азотирования повышается в 1,5—4,0 раза по сравнению со стойкостью цементованных или цианированных деталей. Достаточно высокая износостой-

В результате азотирования в поверхностном слое возникают остаточные напряжения сжатия (рис. 37), что приводит к повышению сопротивления усталости. Увеличение длительности азотирования при постоянной температуре (520° С)

также повышается в результате азотирования; при этом для получения оптимальных результатов рекомендуется в-фазу удалять шлифованием.

Титановые сплавы обладают очень низкими антифрикционными свойствами и не пригодны для изготовления трущихся деталей. Для повышения износостойкости титановые сплавы следует подвергать химико-термической обработке — цементации или лучше азотированию. Азотирование проводят при 850—950°С в течение 15—25 ч в диссоциированном аммиаке или сухом, очищенном от кислорода азоте. В результате азотирования получается тонкий (около 0,1 мм) слой, насыщенный азотом с HV 1000—1200.

Азотирование — это химикотермическая обработка, при которой происходит диффузионное насыщение поверхностного слоя азотом. В результате азотирования обеспечиваются высокая твердость поверхностного слоя (до 72 ННСЭ), высокие усталостная прочность, теплостойкость, минимальная деформация, большая устойчивость против изнашивания и коррозии. Азотирование проводят при температурах 500-520 °С в течение 8-90 ч. Глубина азотированного слоя — 0,1-0,8 мм. По окончании процесса азотирования детали охлаждают до 200-300 °С вместе с печью в потоке аммиака, а затем на воздухе. Повышение температуры ускоряет процесс, но снижает твердость азотированного слоя.

кость такого инструмента после обработки увеличивается в два-три раза. Двухступенчатое азотирование применяют для упрочнения штампов горячей штамповки и штамповых вставок. Стойкость штампового инструмента в результате азотирования повышается в 1,5-2 раза. Двухступенчатый режим азотирования позволяет сократить время обработки деталей в два раза. На первой ступени процесс ведут при 500-510 °С с выдержкой 8-10 ч, на второй ступени — при 570-590 °С в течение 18-20 ч. Детали охлаждают вместе с печью до 200 °С. При двухступенчатом режиме азотированный слой получается с меньшей хрупкостью.

ные свойства. Ви-ган-д [1143] указал, что поверхностные сжимающие напряжения постепенно создаются у основания зазубрин и царапин, как это показано на схемах видимых поверхностных напряжений, приведенных в работе [129]. Таким образом, полезные напряжения создаются там, где они более всего нужны. Богехолд [1119] считает, что усталостные характеристики зависят от отношения площади ядра к площади наазо-тированного слоя. Если бы ядро имело сравнительно малую площадь, то оно не могло бы изолировать наазотированный слой, поэтому на наазотированном слое создавались бы лишь малые напряжения. Помимо этого, имеется опасность разрушения в материале ядра при малом значении приложенного напряжения вследствие высоких остаточных растягивающих напряжений в ядре. Следовательно, прочность азотированных^ тонких профилей может снижаться. Боугехолд приводит пример преждевременного разрушения азотированных шпилек, в то время как толстые профили, такие, например, которые встречаются в коленчатых валах, в результате азотирования значительно улучшаются. Затруднение с тонким профилем можно преодолеть, если имеется тонкий наазотированный слой, -чтобы сохранялось соответствующее соотношение площади ядра -к площади наазотированного слоя.

Водородное изнашивание может быть вызвано не только водородом, который образуется при трении, но и водородом, который может образоваться при различных технологических процессах. При выплавке чугуна в доменном процессе из влаги дутья образуется водород, который и попадает в металл (такой водород называют биографическим). При термической обработке, например в результате азотирования (при диссоциации аммиака), выделяющийся водород диффундирует в сталь. Наводороживание стальных изделий происходит при электроосаждении кадмия,'цинка, хрома и никеля. Одним из способов устранения водорода при гальванических покрытиях является термообработка изделий при температуре 200 °С.

В .результате азотирования сталь приобретает: 1) высокую твердость .на поверхности, не изменяющуюся при нагреве до 400 — 450° С; 2) низкую склонность к задирам; 3) высотсий предел выносливости; 4) высокую кавитационную стойкость; 5) хорошую сопротивляемость коррозии в атмосфере, пресной воде и паре.

ВТОРИЧНАЯ ЭЛЕКТРОННАЯ ЭМИССИЯ - испускание электронов, происходящее в результате бомбардировки поверхности тв. тела (металла, ПП или диэлектрика) пучком электронов. Используется для усиления электронных потоков в электровакуумных приборах (напр., в фотоэлектронных умножителях).

материалов при изготовлении световодов, фотоприёмников и др. ИОННОЕ пятно - участок поверхности экрана, мишени или фотокатода электроннолучевого прибора, изменивший свои св-ва в результате ионной бомбардировки. Внешне проявляется, напр., в виде тёмной области в средней части люминесцентного экрана нек-рых типов ЭЛП с электромагн. отклонением. Чтобы предотвратить появление И.п., применяют, напр., алюминиров. экраны. ибннОЕ РАСПЫЛЕНИЕ - разрушение поверхности твёрдых тел в результате бомбардировки их ионами в вакууме. Используется в технологии электронных приборов гл. обр. для травления (очистки) поверхности подложки (мишени), а также для получения тонких плёнок (слоев толщиной до неск. мкм) путём осаждения на подложку распылённого в-ва. Для И.р., как правило, используются ионы инертных газов (Не+, Ne+, Ar+, Kr+ и др.) с энергией 0,1-10 кэВ. ИОННЫЕ ПРИБОРЫ - то же, что газоразрядные приборы. ионный МИКРОСКОП - прибор для получения увеличенного изображения исследуемого объекта с помощью пучков ионов. По принципу действия аналогичен электронному микроскопу, по сравнению с к-рым имеет более высокие разрешающую способность и контраст изображения. Однако из-за ряда недостатков (заметной потери энергии ионов даже при прохождении через очень тонкие объекты, большой хроматич. аберрации, разрушения ионами люминофора экрана, слабого фотогр. действия ионов) И.м. имеет огранич. применение. См. также Ионный проектор. ИОННЫЙ ОБМЕН - обратимая хим. реакция, при к-рой происходит обмен ионами между разл. электролитами, находящимися в р-ре (гомогенный И.о.) либо между тв. в-вом (ионитом) и р-ром электролита (гетерогенный И.о.). И.о. применяют для обессоливания воды в паровых котлах, а также в гидрометаллургии, хроматографии, хим. и фармацевтич. пром-сти.

ВТОРИЧНАЯ ЭЛЕКТРОННАЯ ЭМИССИЯ — испускание электронов, происходящее в результате бомбардировки поверхности твёрдого тела (металла, ПП или диэлектрика) пучком электронов. Количественно В. э. э. характеризуется коэфф. В. э. э., равным отношению числа вторичных электронов, испускаемых телом, к числу падающих на него первичных электронов. На явлении В. э. э. основано действие электронных умножителей.

Искусственное расщепление ядер осуществляется в результате бомбардировки атомов делящегося вещества нейтронами, обладающими достаточной для этого скоростью. В зависимости от исходного делящегося материала для расщепления применяют быстрые или медленные нейтроны. Медленные нейтроны часто называют тепловыми, так как скорость их движения (л;2200 м/сек) близка к скорости теплового движения молекул.

Графит легче меняет свои свойства при облучении, чем керамические окислы, вероятно, из-за ковалентных связей. Гамма-излучение не наносит повреждений графиту, но в результате бомбардировки нейтронами его

Эксперименты проводили на циклотроне Вашингтонского университета, материаловедческом исследовательском реакторе (MTR) и импульсном реакторе «Годива-П» [2, 35]. В циклотроне в результате бомбардировки бериллиевых мишеней дейтронами с энергией 22 Мэв получали нейтроны с энергией в несколько миллионов электронвольт, которые использовали для облучения транзисторов. Реактор «Годива-П» давал 1,4-1016 нейтронов в импульсе. Интегральный поток нейтронов (нейтронIсм?) определяли для нейтронов с энергией выше 400 кэв. В этих работах для различных транзисторов были получены значения коэффициента р, соответствующие передаче слабых и сильных сигналов, в,зависимости от тока эмиттера 1е при различных интегральных потоках нейтронов. Кроме того, определены коллекторные характеристики в области малых токов эмиттера, а также зависимость 1СО от интегрального потока нейтронов при различных напряжениях смещения. В табл.' 6.1 и 6.2 приведены значения /ео для необлученных транзисторов, рассчитанные значения постоянной К для некоторых из этих транзисторов, а также значения р для случая слабых сигналов после облучения быстрыми нейтронами при указанных значе-

Один из способов избыточного получения точечных дефектов в металле состоит в резком охлаждении его (закалке). Другой способ создания избыточных дефектов заключается в сильной деформации кристаллической решетки, например ковкой или прокатыванием. Их можно также получить в результате -бомбардировки металла атомами или частицами с высокой энергией.

Образование быстро распадающихся радиоактивных изотопов происходит непрерывно в результате бомбардировки земной атмосферы частицами космического излучения. Космическое излучение так же, как и ультрафиолетовые лучи, поглощается атмосферой. Можно ожидать поэтому более высоких уровней космического излучения на больших высотах, и

Активация осуществляется на циклотроне. В результате бомбардировки ускоренными заряженными частицами в тонком поверхностном слое облучаемой детали происходят ядерные реакции, в результате которых образуется весьма малое, но достаточное для регистрации количество радиоактивных изотопов. При этом поверхность трения практически не изменяет свои механические свойства. Глубина активации зависит от вида частиц, их энергии и угла падения частиц на активируемую поверхность. В МВТУ им. Баумана совместно с рядом организаций был проведен комплекс исследований по созданию и отработке методик активации деталей различными видами частиц (дейтоны, протоны, альфа-частицы) в широком диапазоне энергий от 7 до 25 МэВ и при различных углах наклона траектории частиц к бомбардируемой поверхности. В результате была обеспечена возможность получать на рабочих поверхностях деталей машин активированные участки с глубиной активации в диапазоне 10—300 мкм.

При катодном распылении атомы углерода поступают из катода в результате бомбардировки ионами высокой энергии. Затем эти атомы движутся по направлению к высокому положительному потенциалу в системе (рис. 1.22). При катодном распылении используют систему с низким давлением (обычно давление аргона лежит в диапазоне 10~2— 10"1 мм рт. ст.). Напряжение между анодом и катодом порядка 5 кВ. Нагрев катода увеличивает эмиссию -свободных электронов, которые, сталкиваясь с атомами газа, обусловлива-

поле приобретают более высокую энергию и бомбардируют катод, который изготавливается из осаждаемого материала. Анодом служит подложка. В результате бомбардировки в систему поступают атомы материала катода. Поле заставляет их дрейфовать по направлению к электроду с высоким положительным потенциалом.